Bosan dengan peralatan besar yang mengambil alih laboratorium atau ruang produksi kecil Anda? RTP-Sistem RTP desktop 100 dibuat untuk wafer kecil (maks 6 inci)-sempurna untuk tim yang membutuhkan ketelitian tanpa mengorbankan ukuran luas. Ini sederhana, dapat diandalkan, dan disesuaikan dengan kebutuhan sehari-hari para peneliti dan produsen skala kecil.
Apa yang Kami Sukai Tentang Ini
Cocok seperti sarung tangan: Dengan ukuran 910 mm×860 mm×695 mm (L×D×T), ia tergelincir ke sudut sempit atau meja kerja yang ramai. Tidak perlu mengatur ulang seluruh pengaturan Anda hanya untuk menambahkan kemampuan pemrosesan termal.
Kontrol suhu yang dapat Anda andalkan: Dua cara untuk mengatur panas-termokopel untuk suhu ruangan hingga 800 derajat dan pirometer inframerah untuk 500 derajat hingga 1200 derajat . Memanaskan wafer hingga 150 derajat/dtk (jauh lebih cepat dibandingkan dengan SiC atau pembawa grafit, yang dibatasi pada 20-30 derajat /dtk). Dan konsistensinya? Kurang dari atau sama dengan ±3 derajat seragam di bawah 600 derajat, Kurang dari atau sama dengan ±0,5% di atas itu, ditambah ±1 derajat pengulangan-sehingga hasil Anda tidak akan bervariasi dari satu batch ke batch lainnya.
Tidak ada-operasi yang rumit: Memuat/membongkar secara manual mempermudah segalanya (bagus jika Anda lebih suka-kontrol langsung), sementara bel dan lampu peringatan memberi tahu Anda jika ada yang tidak beres. Kontrol PC memudahkan penyesuaian parameter dan-tidak memerlukan pelatihan yang rumit.
Mencakup dasar-dasar (dan beberapa lainnya): Menangani vakum hingga 30 mTorr, menjaga oksigen di bawah 3ppm, dan mendukung hingga 4 saluran MFC. Baik Anda melakukan anil implantasi ion, pertumbuhan oksida, atau perlakuan panas sampel kecil, semuanya memenuhi syarat untuk pemrosesan termal dasar yang cepat.
Untuk Siapa
Ini bukan untuk-pabrik skala besar-ini untuk teknisi laboratorium yang menjalankan eksperimen harian, produsen kecil yang membuat komponen khusus, atau tim peneliti yang menguji material baru. Jika Anda bekerja dengan wafer kecil dan memerlukan hasil yang konsisten tanpa kerumitan peralatan berukuran industri, ini cocok untuk Anda.
Tip Cepat untuk Menggunakannya dengan Benar
Beralih mode suhu: Gunakan termokopel untuk suhu hingga 800 derajat, dan beralih ke inframerah di perangkat lunak PC untuk suhu yang lebih panas. Sistem mengkalibrasi dirinya sendiri secara otomatis-sentuhan yang bagus.
Memuat wafer: Jangan lewatkan sarung tangan bersih! Sidik jari atau debu merusak hasil. Tangani dengan lembut, jangan terjatuh, dan pastikan itu terpusat pada pembawa-langkah sederhana yang akan menghemat sakit kepala di kemudian hari.
Perbaikan umum: Jika bel berbunyi saat startup, periksa dulu apakah pintu rongga terkunci rapat (kita semua lupa itu!). Jika laju pemanasan tidak mencapai 150 derajat/s, pastikan Anda tidak menggunakan media-yang memperlambatnya. Dan jika wafer Anda teroksidasi secara tidak terduga,-periksa kembali ruang hampa (harus kurang dari atau sama dengan 30 mTorr) dan kadar oksigen (pertahankan<3 ppm).
Pemeliharaan itu penting: Bersihkan ruang kuarsa dengan alkohol setiap minggu-kotoran menumpuk lebih cepat dari yang Anda kira. Periksa lampu setiap 3 bulan (ganti setelah 1000 jam) dan cincin penyegel setiap bulan apakah ada keretakan. Oh, dan jangan biarkan air pendingin melebihi 70 derajat -itu cara cepat merusak komponen.
Pekerja Keras yang Solid
Bersertifikasi standar SEMI S2, perangkat ini dibuat agar tahan lama. Ia tidak memiliki fitur tambahan mencolok yang tidak akan pernah Anda gunakan, namun ia memenuhi hal-hal penting: presisi, kekompakan, dan kemudahan penggunaan. Untuk laboratorium dan tim kecil yang membutuhkan solusi pemrosesan termal yang berfungsi setiap hari, RTP-100 adalah solusi yang tepat. Ini tidak sempurna (tidak ada yang sempurna!), tetapi dapat diandalkan-dan itulah yang penting ketika Anda mencoba menjaga eksperimen atau produksi tetap pada jalurnya.
