Ikhtisar produk

Tiga Peralatan Magnetron Sputtering milik perusahaan kami, yang berbasis pada teknologi PVD, semuanya menyimpan film logam, dielektrik, dan semikonduktor berkualitas tinggi, namun berbeda dalam fokus aplikasinya.

Ambil contoh model-ruang tunggal industri: model ini dirancang untuk-produksi skala besar, dengan pemanfaatan target yang menonjol sehingga menjaga biaya tetap terkendali. Ini menangani wafer 8 inci dengan mulus, memberikan output yang konsisten sesuai permintaan manufaktur industri.

Lalu ada versi multi-ruangan industri, yang menggunakan ruang modular dan independen (misalnya pemanasan, sputtering, dan lainnya) untuk mengotomatiskan seluruh proses pelapisan.

Ini adalah-pengubah permainan dalam-produksi film multi--lapisan yang kompleks secara massal, mengurangi intervensi manual. Sebaliknya, mesin kelas-penelitian dirancang khusus untuk universitas dan lembaga penelitian. Ini menawarkan penyiapan yang fleksibel-seperti sputtering multi-target-untuk mengakomodasi-pekerjaan penelitian dan pengembangan dalam jumlah kecil, baik untuk bahan silikon karbida atau prototipe chip kuantum. Di ketiganya, kami berpegang pada komitmen "kualitas pengerjaan" kami, memastikan ketiganya memenuhi beragam kebutuhan industri semikonduktor.

Untuk mendapatkan solusi terbaik bagi Anda, silakan hubungi kami.

Aplikasi

Ketiga Peralatan Magnetron Sputtering di perusahaan kami masing-masing memiliki ceruk tersendiri-yang mencakup setiap kebutuhan dalam industri semikonduktor.

Ambil contoh model-ruang tunggal industri: yang terpenting adalah-manufaktur berskala besar, seperti sirkuit terpadu. Untuk persiapan film tipis wafer berukuran 8-inci, proses ini cepat dan stabil, dimasukkan langsung ke jalur produksi CMOS/IGBT, dan mencapai target kapasitas dan hasil tanpa hambatan.

Multi-ruangan industri menonjol dengan otomatisasi penuh dan integrasi yang solid. Film multi-lapisan rumit yang rumit untuk perangkat 5G dan optoelektronik? Ia menanganinya dengan mudah, memenuhi tuntutan presisi produksi massal yang ketat.

Kemudian-model kelas-penelitian yang ini disesuaikan untuk penelitian dan pengembangan universitas. Ini mendukung-pengujian batch kecil pada material baru seperti silikon karbida, dan bertindak sebagai platform verifikasi yang super fleksibel.

Keuntungan

Ketiga Peralatan Magnetron Sputtering kami masing-masing menghadirkan kekuatan yang ditargetkan, disesuaikan untuk skenario aplikasi yang berbeda:

1. Model Kamar-tunggal Industri:

Skornya besar dengan pemanfaatan target yang tinggi-yang secara langsung memangkas biaya operasional. Saat memproses wafer berukuran 8-inci, ia memberikan kinerja yang kokoh; keseragaman film tetap berada dalam kisaran ±3%, sehingga dengan mudah memenuhi persyaratan hasil industri. Selain itu, strukturnya yang sederhana membuat perawatan menjadi mudah.

2. Model Multi-Ruang Industri:

Ruang otomatis modular adalah keunggulannya, meningkatkan efisiensi produksi secara signifikan. Ia juga dilengkapi kontrol partikel canggih, yang memastikan-kemurnian film tingkat atas-sempurna untuk membuat film multi-lapisan yang digunakan dalam perangkat 5G dan optoelektronik. Terlebih lagi, kemampuan integrasinya yang kuat memungkinkannya beradaptasi dengan berbagai macam material dengan lancar.

3.-Model Nilai Penelitian:

Dirancang dengan mempertimbangkan penelitian dan pengembangan, alat ini menawarkan penyiapan yang fleksibel seperti sputtering multi{0}}target untuk memenuhi kebutuhan pengembangan material baru. Tingkat presisi mikrometer-memberikan dukungan yang andal untuk verifikasi proses, dan-desain pemrosesan batch kecilnya membantu mengurangi biaya uji coba penelitian dan pengembangan-ideal untuk eksplorasi laboratorium.

Parameter

Barang	Model Kamar Tunggal-Industri	Model Multi-Ruang Industri	Penelitian-Model Kelas
Ukuran Wafer yang Berlaku	8 inci ke bawah	6 inci/8 inci	8 inci ke bawah
Vakum Tertinggi	8x10-5 Pa	2x10-5 Pa	-
Keseragaman Film	Kurang dari atau sama dengan ±3%	Kurang dari atau sama dengan ±3%	±3%(target 4 inci, wafer 8 inci)
Kontrol Suhu Tahap Substrat	RT-650 derajat (atau pendinginan)	-	RT-600 derajat (pemanasan atau pendinginan)
Kecepatan Rotasi Tahap Substrat	-	-	5-20 RPM
Metode Penyemprotan	Sputtering{0}}target tunggal	-	Single-target/ multi-target sekuensial/co-sputtering
Catu Daya	Opsional DC/RF/MF	-	Opsional DC/RF/MF
Konfigurasi Kunci	Ruang proses tunggal; Kurang dari atau sama dengan 4 senjata sasaran	Kurang dari atau sama dengan 5 ruang proses (pemanasan, pendinginan, sputtering, dll.)	Sputtering multi-target: pra-ruang vakum (opsional); modul pembersihan sampel
Bahan yang Berlaku	Silikon, senyawa, keramik, dll.	Silikon, senyawa, dll.	Logam (Al,Au,Cu), dielektrik (SiO2,TaN), semikonduktor

Pertanyaan Umum

Bagaimana cara memilih di antara ketiga model tersebut?

Untuk produksi massal wafer berukuran 8-inci (misalnya CMOS/IGBT), pilih model rongga-industri tunggal; untuk film multilapis kompleks dalam 5G/optoelektronik, pilih model multi-rongga industri; untuk penelitian dan pengembangan material baru di universitas (misalnya silikon karbida), pilih model penelitian.

Apakah produk ini mendukung pelapisan bahan non-silikon-?

Ya, mendukung semuanya, meliputi keramik, senyawa semikonduktor, logam (Al/Au), dielektrik (SiO₂), dll.

Apakah ukuran wafernya bisa diperbesar?

Standarnya adalah 8 inci dan di bawahnya (6-8 inci untuk model multi-rongga). Perluasan skala kecil dapat disesuaikan terlebih dahulu, namun kelayakan prosesnya perlu dinilai.

Bagaimana kondisi pengujian untuk keseragaman ketebalan film kurang dari atau sama dengan ±3%?

Berdasarkan wafer 8 inci (wafer target 4 inci + 8-inci untuk model penelitian), pengujian lapisan film logam/dielektrik standar. Optimalisasi dimungkinkan untuk bahan/ketebalan film yang berbeda.

Apakah pelatihan instalasi disediakan?

Kami menyediakan{0}}instalasi dan commissioning di lokasi, ditambah pelatihan pengoperasian/pemeliharaan untuk memastikan tim dapat memulai dengan cepat.

Apakah peralatannya bisa diupgrade nanti?

Model multi-rongga dan penelitian dapat ditingkatkan dengan senjata target/ruang-pra-vakum; model-rongga tunggal memiliki potensi peningkatan yang terbatas, jadi sebaiknya tentukan dengan jelas-kebutuhan jangka panjang sejak awal.

Berapa lama siklus pengirimannya? Apakah bisa dipercepat?

Model-rongga/penelitian tunggal: 8-12 minggu; model multi-rongga: 12-16 minggu; pengiriman yang dipercepat dapat dinegosiasikan dan bergantung pada penjadwalan lini produksi.

Apakah ada diskon untuk-biaya pemeliharaan pascaproduksi?

Terutama untuk bahan target dan bahan habis pakai. Bahan habis pakai ditawarkan dengan diskon Lebih besar dari atau sama dengan 10% selama 5 tahun setelah masa garansi. Kami juga memberikan panduan pemeliharaan untuk mengurangi biaya.

Tag populer: peralatan sputtering magnetron, produsen peralatan sputtering magnetron Cina, pemasok