Pencetakan Proyeksi
Mirip dengan fotografi film, dengan menekan tombol rana, cahaya diproyeksikan ke film melalui lensa dan diekspos. Setelah itu, gambar diperoleh dengan merendam film dalam larutan pengembangan melalui “pencucian foto”. Litografi proyeksi adalah teknologi litografi utama untuk sirkuit terpadu karena efisiensinya yang tinggi dan keunggulan non-destruktif.
3a. Memindai Pencetakan Proyek
Penelitian dimulai pada akhir tahun 1970an dan awal tahun 1980an. Ukuran mask dan pola pada mesin litografi ini adalah 1:1 yang artinya ukuran pada mask sama dengan ukuran pola pada photoresist. Alasan mengapa disebut pemindaian adalah karena cahaya ditransmisikan melalui celah sempit ke media, biasanya memperlihatkan beberapa garis sekaligus. Substrat perlu dipindahkan untuk mengekspos seluruh area dengan energi cahaya.
Fitur: Node proses berkisar antara 180 nm hingga 130 nm, rasio pelat masker 1:1, eksposur ukuran-penuh.
3b. Melangkah mengulangi pencetakan proyek (juga dikenal sebagai Stepper)
Penelitian dimulai pada akhir tahun 1980an dan 1990an, menggunakan sistem lensa untuk memproyeksikan pola dari masker ke substrat satu per satu pada area kecil. Setelah setiap pemaparan pada area kecil, media akan berpindah ke posisi berikutnya hingga seluruh media terekspos. Area yang terbuka disebut 'tembakan'. Karena diproyeksikan melalui sistem lensa, umumnya digunakan pelat 5 kali lipat bila menggunakan sinar ultraviolet 365nm, yang berarti ukuran pola pada pelat topeng adalah 5 kali ukuran fotoresist sebenarnya. Oleh karena itu, pola yang lebih kompleks dapat dirancang pada pelat topeng, namun hal ini meningkatkan kesulitan pembuatan sistem prisma.
3c. Langkah Pemindaian Pencetakan Proyek (juga dikenal sebagai Pemindai)
Sejak akhir tahun 1990-an, mesin jenis ini umumnya digunakan dalam manufaktur semikonduktor kelas atas untuk proses dengan diameter kurang dari atau sama dengan 0,18 μm. Selama proses pemaparan, masker bergerak dalam satu arah sedangkan wafer bergerak serempak dalam arah tegak lurus.
Fitur: Peningkatan bidang pandang untuk setiap eksposur; Memberikan kompensasi untuk permukaan wafer silikon yang tidak rata; Tingkatkan keseragaman ukuran seluruh wafer silikon. Namun, karena kebutuhan akan gerakan mundur, persyaratan presisi sistem mekanis ditingkatkan. Pemindai biasanya memiliki efisiensi produksi yang lebih tinggi dibandingkan mesin pemaparan lainnya, dan desain serta pembuatannya sangat kompleks. Biaya pembelian dan pemeliharaan pemindai juga tinggi.
Litografi dua sisi-dengan presisi tinggi
Terutama digunakan untuk penelitian dan produksi sirkuit terpadu-berukuran kecil dan menengah, komponen semikonduktor, perangkat optoelektronik, perangkat gelombang akustik permukaan, sirkuit film tipis, dan perangkat elektronik daya.
Mesin litografi-dua sisi mencakup sistem kontrol gerak, sistem pemrosesan gambar, perangkat lunak sistem, dan unit kontrol pemrosesan I/O data.
Litografi satu sisi-dengan presisi tinggi
Mesin litografi{0}}presisi tinggi yang dikembangkan untuk berbagai perguruan tinggi, universitas, perusahaan, dan lembaga penelitian berdasarkan karakteristik penggunaan mesin litografi. Ini digunakan untuk penelitian dan produksi sirkuit terpadu-berukuran kecil dan menengah, komponen semikonduktor, perangkat optoelektronik, dan perangkat gelombang akustik permukaan.
Terdiri dari-meja kerja penyelarasan presisi tinggi, sistem tampilan mikroskopis CCD dengan bidang pandang teropong terpisah, kepala eksposur, sistem pneumatik, sistem saluran pipa vakum, pompa vakum-bebas oli yang terhubung langsung, meja kerja anti getaran, dan kotak aksesori.
Mengatasi masalah ketidaksejajaran yang disebabkan oleh ketidakmampuan memisahkan pelat karena media yang tidak-melingkar, fragmen, dan permukaan media yang tidak rata.
