Ikhtisar produk
Tungku termal tabung vertikal dan horizontal perusahaan kami berpusat pada-kontrol suhu presisi tinggi-mereka menangani semua perlakuan panas semikonduktor utama, seperti oksidasi, difusi, dan anil-baik untuk produksi massal atau penelitian dan pengembangan di laboratorium. Perbedaan nyata di antara keduanya terletak pada struktur dan kesesuaiannya dengan kegunaan tertentu:
Tungku termal tabung vertikal
Tungku Tabung Vertikal menghemat ruang, muat kurang dari atau sama dengan wafer 8 inci (tersedia opsi industri 12 inci). Spesifikasi utama: zona suhu konstan maks 850mm, akurasi kontrol ±0,5 derajat.
Model industri: Meningkatkan produksi massal IC/IGBT melalui pemrosesan batch tanpa henti. Model penelitian: Memenuhi kebutuhan suhu rendah-chip kuantum/SiC untuk verifikasi batch-kecil.
Tungku termal tabung horizontal
Desain Tungku Tabung Horisontal, konfigurasi tabung 1-4 fleksibel; Zona suhu konstan 300-1000mm yang dapat disesuaikan, kisaran 400 derajat -1200 derajat.
Model industri: Integrasi multi-proses untuk doping wafer/pembentukan struktur. Model penelitian: Memadukan pengajaran & pengembangan, ideal untuk eksperimen-kelompok kecil di universitas.
Keduanya menggunakan ruang yang bersih dan kontrol suhu yang stabil, yang mencakup kebutuhan termal semikonduktor mulai dari Litbang hingga produksi massal.
Aplikasi
- Untuk universitas/lembaga penelitian: Mendukung-Litbang SiC, chip kuantum, dll. dalam jumlah kecil, membantu verifikasi proses material baru dan pengujian kinerja.
- Pemrosesan nano-mikro: Menangani difusi, oksidasi, anil, LPCVD-berfungsi sebagai platform fleksibel untuk penelitian perangkat optoelektronik/fotonik.
- Penelitian & Pengembangan perangkat optik: Sesuai dengan pandu gelombang optik terintegrasi/pengembangan perangkat fotonik-berkecepatan tinggi; sesuai dengan kebutuhan perlakuan panas LiNbO₃ dalam pertukaran proton.
- Pengajaran di universitas: Membantu pengajaran eksperimental/pengembangan proses, membantu menguasai peralatan termal semikonduktor dan menghubungkan teori dengan teknik.
Keuntungan
Kontrol suhu-presisi tinggi:
akurasi ±0,5 derajat; bahkan pada suhu 1.100 derajat , stabilitas-titik tunggal tetap ±0,5 derajat selama 24 jam, memastikan kemampuan pengulangan data yang andal.
Kompatibilitas multi{0}}proses:
Tungku vertikal mendukung difusi/oksidasi; yang horizontal menambahkan anil & LPCVD. Keduanya cocok untuk penelitian dan pengembangan chip SiC/kuantum.
Penelitian-kemampuan beradaptasi yang ramah:
Berfungsi dengan wafer berukuran kurang dari atau sama dengan 8-inci (1-4 tabung opsional). Desain batch kecil satu tabung menghemat biaya; mendukung proses jangka panjang yang berkelanjutan untuk eksperimen.
Parameter
|
Barang |
Tungku Tabung Vertikal |
Tungku Tabung Horisontal |
|
Kisaran Suhu |
200 derajat -600 derajat, 600 derajat -1200 derajat (dua rentang opsional) |
200 derajat -600 derajat, 600 derajat -1200 derajat (dua rentang opsional) |
|
Akurasi Kontrol Suhu |
Kurang dari atau sama dengan ±0,5 derajat |
Kurang dari atau sama dengan ±0,5 derajat |
|
Keseragaman Suhu |
- |
Kurang dari atau sama dengan ±1 derajat |
|
Stabilitas Suhu-titik tunggal |
Kurang dari atau sama dengan ±0,5 derajat @1100 derajat selama 24 jam berturut-turut |
Kurang dari atau sama dengan ±0,5 derajat @1100 derajat selama 24 jam berturut-turut |
|
Tingkat Pemanasan Maksimum |
10 derajat / menit |
10 derajat / menit |
|
Panjang Zona Suhu Konstan |
200-500mm |
200-500mm |
Pertanyaan Umum
Berapa ukuran wafer yang ditangani tungku termal tabung?
Model vertikal dan horizontal mendukung wafer hingga 8 inci.
Proses inti apa yang dapat mereka lakukan?
Tungku Tabung Vertikal: Meliputi difusi, oksidasi, dan anil.
Tungku Tabung Horisontal: Menambahkan integrasi LPCVD di atas dasar-dasar tersebut.
Bisakah jumlah tabung proses disesuaikan?
Tentu saja-Anda dapat memilih 1 hingga 4 tabung per unit, berdasarkan kebutuhan Anda.
Seberapa tepat pengatur suhunya?
Akurasi kontrol suhu tetap dalam ±0,5 derajat. Bahkan pada suhu 1100 derajat, satu titik tetap menjaga stabilitas dalam ±0,5 derajat selama 24 jam berturut-turut. Untuk tungku horizontal, keseragaman suhu juga berada dalam ±1 derajat.
Bagaimana dengan laju pemanasan dan kisaran suhu?
Laju pemanasan maksimal mencapai 10 derajat/menit, dengan dua rentang suhu tersedia: 200-600 derajat dan 600-1200 derajat.
Apakah panjang zona suhu konstan dapat disesuaikan?
Secara default berkisar antara 200-500mm, dan penyesuaian didukung.
Mana yang lebih baik untuk laboratorium penelitian universitas?
Gunakan vertikal jika Anda memerlukan proses dasar-ini menghemat ruang dan hemat biaya-efektif. Pilih horizontal jika Anda memerlukan LPCVD, dukungan pengajaran, atau untuk menjembatani pekerjaan lab dan produksi massal.
Bisakah itu menjalankan eksperimen yang panjang? Apakah pemeliharaannya mahal?
Mendukung operasi jangka panjang-nonstop. Pemeliharaan jarang dilakukan, sehingga biaya tetap terkendali.
Apakah cocok untuk produksi percontohan atau{0}}dalam jumlah kecil?
Ya-kedua model beralih dengan lancar antara penelitian dan pengembangan dan-produksi dalam jumlah kecil.
Tag populer: tungku termal tabung, produsen tungku termal tabung Cina, pemasok
