Ikhtisar produk

Ini adalah alat proses inti yang dirancang khusus untuk pembuatan perangkat Wet Oxidation Furnace (Perangkat-Permukaan Rongga-Emitting Laser (VCSEL) Vertikal). Ini dibuat untuk menangani kebutuhan proses perangkat optoelektronik dan semikonduktor-menggunakan teknologi oksidasi oksigen basah yang disesuaikan, ini menciptakan lapisan pengekang optik padat dan struktur isolasi listrik di VCSEL. Selain itu, ia juga berfungsi untuk pasivasi permukaan wafer secara umum, sehingga memberikan dukungan proses utama untuk meningkatkan kinerja perangkat.

Keunggulan Tungku Oksidasi Basah adalah-kontrol presisi tinggi: keseragaman suhu adalah yang terbaik-terbaik, pengaturan uap air mudah, dan konsistensi oksidasi solid. Artinya, hal ini memenuhi persyaratan stabilitas proses yang ketat yang diminta oleh perangkat VCSEL. Ini juga dirancang dengan sistem yang andal, berjalan dengan mantap, dan cocok dengan skenario proses presisi untuk produksi perangkat optoelektronik. Baik itu-Litbang dalam skala kecil di lembaga penelitian atau-produksi skala besar di perusahaan, hal ini memenuhi beragam kebutuhan-menyediakan dukungan peralatan yang dapat diandalkan untuk terobosan teknologi dan peluncuran kapasitas di bidang terkait VCSEL-seperti komunikasi optik, penginderaan, lidar, dan banyak lagi.

Aplikasis

Pembuatan Perangkat VCSEL: Sebagai alat inti untuk produksi laser VCSEL, alat ini menciptakan lapisan pengekang optik padat dan struktur insulasi listrik melalui proses oksidasi oksigen basah yang disesuaikan. Ini mendukung pembuatan VCSEL-performa tinggi yang digunakan dalam komunikasi optik, penginderaan 3D elektronik konsumen, lidar otomotif, dan bidang lainnya.
Pasifasi Permukaan Wafer: Bekerja dengan proses pasivasi permukaan wafer universal untuk perangkat optoelektronik dan semikonduktor. Ini mengoptimalkan kondisi permukaan wafer, meningkatkan keandalan dan masa pakai fotodetektor dan sensor semikonduktor.
Litbang Bahan Optoelektronik Tingkat Lanjut: Menawarkan platform eksperimental yang stabil dan tepat untuk lembaga penelitian. Hal ini mendukung eksplorasi parameter proses oksidasi basah untuk material optoelektronik baru (seperti material berbasis galium arsenida-canggih) dan membantu penelitian dan pengembangan teknologi optoelektronik mutakhir.

Keuntungan

Kontrol Proses-Presisi Tinggi: Menghasilkan keseragaman suhu yang sangat baik, penyesuaian uap air yang mudah, dan konsistensi oksidasi yang andal. Hal ini memastikan keseragaman struktural perangkat VCSEL dan menghindari variasi kinerja yang disebabkan oleh fluktuasi proses.

Keandalan Sistem Tinggi: Memiliki struktur yang stabil dan sistem kontrol yang matang untuk-operasi stabil jangka panjang. Ini memenuhi tuntutan proses presisi perangkat optoelektronik dan mengurangi waktu henti akibat kegagalan peralatan.

Kompatibilitas Proses yang Kuat: Berfokus pada oksidasi basah VCSEL sambil mendukung perawatan pasivasi universal. Ini beradaptasi dengan produksi dan penelitian dan pengembangan berbagai produk, sehingga meningkatkan pemanfaatan peralatan.

Jaminan Hasil Tinggi: Meningkatkan insulasi listrik dan efek pengekangan medan cahaya pada perangkat VCSEL melalui kontrol suhu yang stabil, pengaturan uap air yang tepat, dan proses yang dioptimalkan-menurunkan tingkat kerusakan secara efektif.

Parameter

Ukuran wafer	4-6 inci
Kisaran suhu	300 derajat -500 derajat
Proses yang berlaku	Oksidasi basah VCSEL
Akurasi kontrol suhu	Kurang dari atau sama dengan ±0,5 derajat
Zona datar	250mm
Keseragaman oksidasi	R Kurang dari atau sama dengan 1μm

Pertanyaan Umum

Apakah peralatan ini hanya digunakan untuk pembuatan Tungku Oksidasi Basah?

Tidak, itu tidak terbatas pada itu saja. Selain proses oksidasi basah perangkat VCSEL inti, perangkat ini juga kompatibel dengan perawatan pasivasi permukaan wafer umum untuk perangkat optoelektronik dan semikonduktor, yang beradaptasi dengan produksi dan penelitian dan pengembangan berbagai produk.

Seberapa tepat pengaturan pengaturan suhu dan kelembapan dalam hal pengendalian proses?

Keseragaman suhu yang sangat baik, pengaturan kelembapan yang nyaman, dan konsistensi oksidasi yang baik. Ini secara akurat memastikan keseragaman lapisan pengekangan optik dan struktur isolasi listrik perangkat VCSEL, menghindari dampak kinerja dari fluktuasi proses.

Seberapa stabil pengoperasian peralatan, dan dapatkah memenuhi kebutuhan produksi massal atau{0}}R&D jangka panjang?

Mengadopsi struktur yang stabil dan sistem kontrol yang matang, mesin ini dapat beroperasi secara stabil untuk waktu yang lama, mengurangi waktu henti akibat malfungsi. Ini memenuhi persyaratan produksi massal yang berkelanjutan dari perusahaan dan-kebutuhan eksperimental jangka panjang dari lembaga penelitian.

Bisakah ini mendukung eksplorasi proses bahan optoelektronik baru?

Ya, ini menyediakan platform eksperimental yang stabil dan tepat untuk lembaga penelitian, mendukung eksplorasi parameter proses oksidasi basah untuk bahan optoelektronik baru seperti bahan berbasis galium arsenida-yang ditingkatkan, berkontribusi terhadap-R&D teknologi mutakhir.

Apakah ada persyaratan khusus untuk ukuran wafer?

Ini terutama beradaptasi dengan spesifikasi wafer umum VCSEL dan perangkat terkait. Secara khusus, ini dapat memberikan solusi adaptasi yang disesuaikan dengan kebutuhan ukuran wafer produksi aktual atau penelitian dan pengembangan pengguna.

Tag populer: tungku oksidasi basah, produsen tungku oksidasi basah Cina, pemasok